キャンパス・イノベーションセンター東京 新技術説明会(7/29)
N1
酸化チタン光触媒−糖アルコールハイブリッドナノ粒子
11:00〜11:20

千葉大学 大学院 自然科学研究科
助教授 上川 直文
http://chem.tf.chiba^-u.jp/~uekawa/
技術概要
酸化チタンナノ粒子を糖アルコール分子と複合化することによって、広いpH領域に渡り水溶液中に安定にアナターゼ型酸化チタンナノ粒子が分散したゾルを得る方法を開発した。室温で基板に塗布乾燥するだけで製膜でき光触媒膜を始め様々な応用が可能である。

従来技術・競合技術との比較
本酸化チタンナノ粒子分散液は、従来技術において分散媒として用いられてきたアルコールなどの有機溶媒を用いず中性水溶液を分散媒としている。また、他の溶媒やゾルと混合しても安定であり光触媒膜作製だけでなく電子セラミックス製造原料などとしても用いることが出来る。
技術の特徴
・広いpH領域で安定に水溶液中に分散したゾルである
・高比表面積
・100℃以下の加熱処理で製造可能かつ低環境負荷である
想定される用途
・光触媒膜用コーティング液
・色素増感太陽電池用電極材料
・電子セラミックス製造原料
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N2
グラフト化によるカーボンナノチューブとナノファイバーの機能化
11:20〜11:40

新潟大学 工学部機能材料工学科/新潟大学 超域研究機構
教授 坪川 紀夫
http://kinou.eng.niigata-u.ac.jp/ntsuboka/ntsuboka.html
技術概要
カーボンナノチューブ(CNT)やカーボンナノファイバー(CNF)表面へ高分子の毛を生やす(グラフト)すると、溶媒中やポリマー中への分散性が著しく向上する。本講演では、この様なCNTやCNFを用いるセンサー、電池電極材料への応用展開について紹介する。

従来技術・競合技術との比較
CNTやCNFと高分子との複合材料では、高分子マトリックス中への分散が悪いという大きな問題点があった。本技術では、CNTやCNTのポリマー中への均一分散が達成でき、今までにない新規の複合材料や機能性材料へと展開できる可能性を秘めている。
技術の特徴
・CNTやCNFの溶媒中やポリマー中への均一分散
・CNTやCNF表面へのイオン導電性、生体親和性等の機能付与
・新規センシング材料、導電性材料への展開が可能
想定される用途
・導電性複合体フイルム
・高強度、高性能複合材料
・センシング材料、電極材料
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N3
高導電率を有する導電性高分子ポリアニリンの創製 
11:40〜12:00

山形大学 大学院 理工学研究科
生体センシング機能工学専攻
教授 倉本 憲幸
http://cmk.yz.yamagata-u.ac.jp
技術概要
二分子鎖構造を持つアニオン性界面活性剤存在下で合成したポリアニリンは、トルエンやキシレンなどの有機溶媒への溶解性に優れており、さらに二次ドーパントを加えることで数百ジーメンス程度の高い導電率を有することを見出した。

従来技術・競合技術との比較
無機酸中で合成されるポリアニリンは数ジーメンスから数十ジーメンス程度の導電率を示すが、このアニオン性界面活性剤存在下で合成したポリアニリンは溶解性に優れており、二次ドーパントを加えることで数百ジーメンスの最高導電率を示す。
技術の特徴
・合成が容易であり、安価な材料から合成される。
・空気中で安定であり、数百ジーメンスの最高導電率を示す。
・自立性のある強固な導電性フィルムを形成できる。
想定される用途
・静電気防止材料や電磁波シールド材料等の導電性材料
・導電性繊維や人工筋肉材料
・防錆塗料や活性酸素発生材料
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N4
ゼオライトヒートポンプによる冷却、廃熱等の有効利用
13:00〜13:20


山口大学名誉教授 溝田 忠人

技術概要
ゼオライトヒートポンプは提案以来30年近く経つ。今後のエネルギー事情に対応には、廃熱等の有効利用が急務である。最近のゼオライト吸着材の開発とヒートポンプの特性の解明により、低温廃熱の有効利用に道が開けてきた。200℃以下の熱源のみで、冷却、乾燥、蓄熱を行う吸着材とヒートポンプ装置を提案。

従来技術・競合技術との比較
冷却は殆ど電力を用いて行われている。COP=5-6と言われるエアコンや冷凍機は電力を用いてそれを達成している。発電効率40%を考慮すれば、ゼオライトヒートポンプも勝負になる。特に、廃熱を有効利用すれば、エネルギーの大きな節約につながる。電力を使わない選択も可能にすべきである。
技術の特徴
・80℃−200℃程度の熱源で、冷却、乾燥、蓄熱が出来る。
・電力を主たるエネルギー源として用いる必要が無い。
・装置が単純、メンテナンスが容易。
想定される用途
・エコアイスシステムの代替。
・電磁障害、騒音、油害からの解放による冷却、乾燥。
・熱源を選ばない、深夜電力の蓄熱
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N5
高分子タンニン水溶液の高粘度化とゲル形成技術の開発
13:20〜13:40

鹿児島大学 農学部 生物資源化学科
教授 松尾 友明

技術概要
果実や木材から精製したポリフェノールの重合体であるタンニンは高い水溶性を示すとともに種々の特性を持つことが古くから知られている。たとえば、重金属、アルカロイド、タンパク質との高い親和性、結合能を持つこと、また、消臭作用、抗酸化性や活性酸素の消去作用、および、抗菌(静菌)作用、ウイルスの増殖抑制作用を持つことなども報告されている。これらの特性を持つタンニン水溶液の粘度を増加させる技術、さらに、進めてソフトゲルを形成する技術について説明する。

従来技術・競合技術との比較
従来、高分子タンニンはホルムアルデハイドと容易に反応してゲルを形成することが知られているが、この化学物質の使用は現在極めて限定されており、種々の生活化成品には利用できない。本技術ではヒトの生活に優しい、あるいは、ソフトマトリックスとしても利用できる、高分子タンニン水溶液を利用したゲルの形成技術について述べる。
技術の特徴
3種類のゲル化方法から異なった特性を持つ、高粘度水溶液、あるいは、ソフトゲルを製造できるため、用途に応じて、ポリフェノール、あるいは、タンニンの特性を生かしつつ、種々の性質を示すゲルを作成することができる。
想定される用途
・抗酸化性を強化したペットの健康食品
・消臭・抗菌グッズおよび肌荒れ防止グッズ
・ヒトに優しい天然物塗料や染料
・抗ウイルス作用を持つマスクや包帯
・重金属、アルカロイド、タンパク質除去カラムシステム
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N6
シンクロトロン光を用いた大学発の新産業創出
13:40〜14:00

佐賀大学 シンクロトロン光応用研究センター
教授/副センター長 鎌田 雅夫
http://www.slc.saga-u.ac.jp/
技術概要
九州地域初のシンクロトロン光事業を佐賀県と協力して進めており、利用開始目前である。遠赤外線からX線までをカバーする夢の光であるシンクロトロン光は、世界的最高水準の学術応用研究や新産業創出を図る上で必要不可欠の最先端装置である。

従来技術・競合技術との比較
シンクロトロン光は、遠赤外線からX線までを連続的にカバーする。特に真空紫外から軟X線領域で高強度であり、高輝度で指向性に優れており、高繰り返しのパルス性や偏光性ならびに清浄性を有する人工の光であるので、多くの分野で応用が期待されている。
技術の特徴
・ 太陽の数桁倍、X線管の5−9桁倍の強い光
・ 地球上に存在しない真空紫外線や軟X線を発生
・ 九州地域で初めてのシンクロトロン光源
想定される用途
・ ナノテクノロジー分野
・ バイオテクノロジー分野
・ 環境、エネルギー、材料、IT分野
・ 表面界面、半導体分野
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N7
垂直高配向型カーボンナノチューブ基板作成とその活用
14:00〜14:20

熊本大学 工学部 物質生命化学科
助手 冨永 昌人
http://www.chem.kumamoto-u.ac.jp/index-J.html
技術概要
本発明は、有機薄膜修飾基板上に触媒金属微粒子を配置することで、基板上にカーボンナノチューブを気相成長法により垂直配向成長させるための技術である。

従来技術・競合技術との比較
垂直配向型カーボンナノチューブの製造プロセスをこれまでより遙かに簡略化。また、シリコン以外の基板にも作成可能。
技術の特徴
・垂直高配向型カーボンナノチューブ
・シンプルな製造プロセス
・シリコン基板以外でも作製可能
想定される用途
・高感度バイオセンサ
・高感度ガスセンサ
・触媒担持基板
・電子デバイス素材
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N8
非爆発性原料を用いた高耐食性透明絶縁膜の低温形成
14:20〜14:40

九州工業大学 工学部 電気工学科
助教授 和泉 亮
http://www.ele.kyutech.ac.jp/lab_izumi.html
技術概要
高耐食性で硬く透明な絶縁膜として知られているシリコン炭窒化膜(SiCN)を爆発性や毒性のない安全な原料でしかも安価な薄膜堆積法で成膜する技術を開発しました。プラスティックを始め、様々な基板上にSiCNの成膜ができます。

従来技術・競合技術との比較
ホットワイヤー化学気相堆積(HWCVD)法によりSiCN膜を堆積します。本手法は競合堆積技術であるプラズマCVD法と比べて、装置コストが安価であり、大面積基板堆積が可能であり、プラズマダメージレスなどの特長があります。
技術の特徴
・最先端の半導体堆積技術を安全にしかも安価で提供
・高耐食性で硬く透明な絶縁膜を基板の種類、形、大きさを問わずに成膜可能
想定される用途
・プラスティック、繊維、金属材料、半導体材料などへのコーティング
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N9
ゆるまないボルト・ナット
14:40〜15:00

佐賀大学 理工学部 機械システム工学科
教授 西田 新一

技術概要
ボルトのねじ部に、並み目と細目の二種類のねじを加工し、内側に並み目用ナット、外側に細目用ナットを勘合させることにより、ゆるまない締結体ができる。それを、平ダイス転造で低コスト生産技術を確立した。

従来技術・競合技術との比較
従来から、ゆるみにくいボルト・ナット等について、種々の商品が提案され販売されてきている。しかし、いずれも高コスト、繰返し使用が不可あるいは使用条件が限定等の問題点があった。
技術の特徴
・並み目と細目ナットのピッチ差のため、お互いに干渉しゆるまない。
・繰返し使用が可能。
・平転造による大量生産が可能のため、低コスト。
想定される用途
・繰返し加重が加わる構造物の締結部、たとえば各種搬送機器、鉄塔、鉄橋、機械類等
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N10
熱変形自動防止機能を持った精密工作機械
15:20〜15:40

鳥取大学 地域共同研究センター
助教授 岡本 尚機
http://www.cjrd.tottori-u.ac.jp
技術概要
工作機械の運転に伴って発生した熱を遮断体によって閉じこめ、その熱をヒートパイプ等により他に導き、工作機械本体の熱変形を防止し、精密加工を可能とする工作機械を提案するもの。

従来技術・競合技術との比較
運転時の熱発生により工作機械の加工精度が低下する。従来技術では発熱箇所を強制冷却する装置を設置したり、工場内の精密な空調により加工精度を保持してきたが、その分エネルギー損失を招いていた。本発明はこのような付帯設備を必要としない地球環境保全に好適な工作機械である。
技術の特徴
・発生した熱の拡散防止
・ 高熱伝導体による発生熱の除去
・除去した熱エネルギーの電気エネルギーへの変換
・変換した電気エネルギーによる工作機械の空冷
想定される用途
・高精度・高生産性工作機械
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N11
高選択透過性を示すセラミック製水素分離膜
15:40〜16:00

広島大学 大学院 工学研究科 物質化学システム工学
教授 淺枝 正司

技術概要
高温(約500℃)水蒸気存在下においても安定であり、室温〜高温の広い温度域において、水素やヘリウムの選択透過性が高く、その他のガス分子はほとんど透過しない新規なセラミック分離膜の製造方法を開発した。

従来技術・競合技術との比較
粗い多孔性基材面上に、金属添加シリカゲル層を形成、高温焼成によって得られるシリカ金属複合薄膜から成る気体分離用セラミック膜であり、耐熱性、高温耐水蒸気性、H2、He高選択透過性、貴金属膜に比較して安価。
技術の特徴
・ゾル−ゲル法によるシリカ金属複合薄膜の製膜
・耐熱性、特に高温水蒸気耐性の賦与
・分子ふるい作用を発揮させる超微細孔
想定される用途
・合成ガスからの水素の分離回収・精製
・水蒸気改質反応器への応用(水素分離と反応促進)
・天然ガスからのヘリウムの分離回収・高度精製
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N12
液-液界面を利用した非対称形状の結晶の析出方法
16:00〜16:20

同志社大学 工学部 物質化学工学科
助教授 白川 善幸

技術概要
食塩を高濃度に溶解した水溶液に、食塩は溶解しないが水に対して可溶性のある溶媒(例えばブタノール)と接触させることにより、食塩を析出・結晶化させる方法であり、簡単に表面積の大きな結晶を得ることが出来る。

従来技術・競合技術との比較
結晶を得る方法として冷却晶出法や蒸発濃縮法が知られているが、冷却や加熱に多大なエネルギーを要する。本方法では液-液界面を利用するため、常温で簡単に結晶を得ることが出来る。また結晶の大きさを比較的簡単に制御でき、表面積の大きな結晶に成長させることも可能。
技術の特徴
・特別な加熱や冷却を必要とせず、常温で簡単に結晶が得られる。
・表面積の大きい特異な形状(例えば枡の形)の結晶が得られる。
想定される用途
表面積の大きな結晶体(無機物だけでなく有機物も可能)として、吸着剤、触媒、医薬品原料などへの利用が期待できる。
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N13
超臨界流体を利用した薄膜形成技術
16:20〜16:40

山梨大学 大学院 医学工学総合研究部
助教授 近藤 英一

技術概要
薄膜形成には従来、気体・真空や水溶液が用いられてきました。気体でも液体でもない、超臨界流体という媒質を用いた新しい薄膜形成技術について紹介します。

従来技術・競合技術との比較
ナノレベルの被覆性、プロセス温度の低温化、リサイクル性・低環境負荷などユニークな特徴があります。
技術の特徴
・ナノレベルの被覆性
・リサイクル性・低環境負荷
・定温成膜、広範なプロセス設計
想定される用途
・半導体製造装置
・MEMS/NEWS プロセス
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キャンパス・イノベーションセンター東京 新技術説明会
New Technology Presentation Meetings!
技術内容・ライセンスについて
N3
山形大学 東京サテライト
〒108-0023 東京都港区芝浦3-3-6 キャンパス・イノベーションセンター503号室
TEL/FAX:03-5440-9071 e-mail:tokyo@jm.kj.yamagata-u.ac.jp

L13

N2
新潟大学 研究支援部研究支援第一課
〒950-2181 新潟市五十嵐2の町8050番地
TEL:025-262-6375  FAX :025-262-7513 e-mail:h-koyano@adm.niigata-u.ac.jp

L15

N1
千葉大学 知的財産本部
〒263-8522 千葉県稲毛区弥生町1-33
TEL: 043-290-3565 FAX:043-290-3519 e-mail: ccrcu@faculty.chiba-u.jp

L7

N13
山梨大学 知的財産経営戦略本部
〒400-8510  山梨県甲府市武田4丁目4-37
TEL:055-220-8755 FAX :055-220-8757 e-mail: chizai@ccn.yamanashi.ac.jp

L1

L14
静岡大学 知的財産本部
〒432-8561 静岡県浜松市城北3-5-1
TEL:053-478-1414 FAX:053-478-1711 e-mail: ship@cjr.shizuoka.ac.jp

L12
金沢大学TLO 技術移転部
〒920-1192 石川県金沢市角間町 共同研究センター内
TEL:076-264-6115 FAX:076-234-4018 
e-mail: e-mail-to@kutlo.incu.kanazawa-u.ac.jp

L2

N12
同志社大学 東京リエゾンオフィス
〒610-0394 京田辺市多々羅都谷1-3
TEL:0774-65-6223 FAX: 0774-65-6773 e-mail: jt-liai3@mail.doshisha.ac.jp

L3
奈良先端科学技術大学院大学 研究協力課 産官学推進室
〒630-0192 奈良県生駒市高山町8916-5
TEL:0743-72-5930 FAX:0743-72-5015 e-mail: k-sangaku@ad.naist.jp

L8

N10
鳥取大学 地域共同研究センター
〒680-8550 鳥取市湖山町南4丁目101番地
TEL: 0857-31-5686 FAX: 0857-31-6707 e-mail: okamoto@cjrd.tottori-u.ac.jp

L5

N11
広島大学 知的財産社会創造センター
〒739-8511 広島市鏡山1-3-2
TEL: 082-4242-5597   FAX: 082-424-6133 e-mail: chizai@hiroshima-u.ac.jp

N4
山口大学 地域共同研究開発センター
〒755-8611 山口県宇部市常盤台2-16-1
TEL:0836-85-9951 FAX:0836-85-9952 e-mail: sakiyama@yamaguchi-u.ac.jp

L6

N10
愛媛大学 研究協力部産学連携課 知的財産担当
〒790-8577 松山市文京町3番
TEL:089-927-8963 FAX: 089-927-8820 e-mail:kiyo712t@stu.ehime-u.ac.jp

L11

N8
九州工業大学 知的財産本部
〒804-8550 北九州市戸畑区仙水町1-1
TEL:093-884-3499 FAX:093-884-3531 e-mail: nakamura@ccr.kyutech.ac.jp

N6

N9
佐賀大学 学術研究協力部 研究協力課 産学連携・知財係
〒840-8502 佐賀県佐賀市本庄町1
TEL:0952-28-8400  FAX: 0952-28-8883 e-mail:akiyamh@cc.saga-u.ac.jp

L4

N7
熊本大学 知的財産創生推進本部 リエゾンオフィス
〒860-8555 熊本市黒髪2丁目39番1号
TEL/FAX:096-342-3247  e-mail:liaison@jimu.kumamoto-u.ac.jp

L9

N5
鹿児島大学 研究協力部研究協力課産学連携係
〒890-8580 鹿児島市郡元1丁目21番24号
TEL: 099-285-7106 FAX 099-285-3886 e-mail: tikouken@kuas.kagoshima-u.ac.jp


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