首都圏北部四大学発　新技術説明会

	13:30-13:50
大気圧マイクロプラズマジェットの生成と薄膜プロセスへの応用 埼玉大学 工学部 機能材料工学科 助教授 白井 肇   技術の概要 簡単な装置構成で局所領域に密度の高い大気圧マイクロプラズマジェットを生成し、１）非晶質薄膜の短時間結晶化および２）シリコン・炭素系ナノ構造形成へ応用した。１）では、非晶質Ｓｉ膜にプラズマ照射を行った領域に高品質多結晶Ｓｉの形成を実現した。ＴＦＴを試作し移動度：６２ｃｍ２／Ｖｓを得た。２）では、針状シリコンナノ結晶、シリコンナノワイヤーが大気下で形成され、電界放出特性および強い可視発光特性を確認している。 従来技術・競合技術との比較 従来の固相成長、ランプアニール、レーザー再結晶化による多結晶シリコン作製技術との競合が予想される。特にレーザー再結晶化による多結晶シリコンの結晶粒の大粒径化、面内均一性との対比が注目される。また酸化膜等他の材料系の短時間結晶化技術としての展開が期待される。 技術の特徴 ・ 安価な装置構成で非晶質薄膜の短時間結晶化が可能。 ・ 大気下でナノ構造形成が可能。 ・ 大気下で１０００℃以上の反応領域が局所的に生成できる。 想定される用途 ・ ディスプレイ関連、太陽電池関連 ・ プラズマ技術応用関連 ・ 半導体プロセス関連 ・ 表面処理技術関連

技術内容・ライセンスについて

〒338-8570　埼玉県さいたま市桜区下大久保255 tel ： 048-858-9106 fax ： 048-858-9120 e-mail ： intp@post.saitama-u.ac.jp